一、光学成像原理简介二、与分辨率相关的术语有以下几个：三、光学镜头相关知识 阅读全文>>

偏振光与LCD，偏振光与OLED，偏振光与3D显示，偏振光与AR显示 阅读全文>>

1、基于干涉条纹的波像差检测2、相位差-相位恢复算法3、总结 阅读全文>>

一、Zernike多项式优点二、多种Zernike多项式三、Zernike与Seidel的转化与误区四、Zernike多项式的限制五、波面检测 阅读全文>>

一、什么是像差二、常见像差介绍三、什么是波前像差？四、波前像差描述方式——Zernike多项式五、相关文献： 阅读全文>>

　一、像差的概念：二、像差产生的原因： 阅读全文>>

USAF 1951、NBS 1952、NBS 1963A、线栅、西门子星（扇形图）以及组合图案 阅读全文>>

光纤的数值孔径大小与纤芯折射率，及纤芯－包层相对折射率差有关。从物理上看，光纤的数值孔径表示光纤接收入射光的能力。NA越大，则光纤接收光的能力也越强。从增加进入光纤的光功率的观点来看，NA越大越好，因为光纤的数值孔径大些对于光纤的对接是有利的。但是NA太大时，光纤的模畸变加大，会影响光纤的带宽。因此，在光纤通信系统中，... 阅读全文>>

一、光罩制作的基本流程：1.设计与数据准备：设计师使用电子设计自动化（EDA）软件完成集成电路的设计，并生成GDSII（GraphicDataSystemII）或其他格式的数据文件，这些数据包含了掩模版上应形成的图形信息。2.基板准备：选择高质量的透明基板，通常为高纯度石英玻璃或特定玻璃材料，进行严格的清洁和表面处理，... 阅读全文>>

一、介绍：光刻掩模版保护膜，也称为maskpellicle，是一种专门设计的透明薄膜，用于在半导体制造和其他精密光刻工艺中保护光刻掩模版。二、掩模版保护膜的主要作用：1.防尘：掩模版保护膜能有效防止空气中的微尘粒子落在掩模版的图形区域，这些微尘如果落在掩模版上，会在光刻过程中被复制到晶圆上，导致芯片缺陷。保护膜像一个筛... 阅读全文>>